Sredstvo za čišćenje poluvodiča/vafera

 

Karbonil fluorid cf2o za sredstvo za jezgru kemikalija

Jedinična cijena: USD 500 / Gram

Min.Order	Jedinična cijena
100 Gram	USD 500 / Gram

Karbonil fluorid CAS: 353-50-4 CF2O Hight Puhisy Purity for Etching Chemicals Agens Uvod proizvoda Molekularna masa karbonil fluorida (CF 2 O) iznosi 66,01, a točka taljenja -114 ℃, točka ključanja je -84 ℃. Karbonilni fluorid je vrsta vrlo...

Pošalji upit Kliknite za pojedinosti

Kina Sredstvo za čišćenje poluvodiča/vafera Dobavljači

ZSEM proizvodi razne elektroničke posebne plinove i organska otapala visoke čistoće koje sadrže fluorine kako bi se olakšala proizvodnja čipa. Zadatak čišćenja vafera jedan je od najprometnijih postupaka koji se poduzima prilikom izrade vafera. Uz stalno mijenjajuću tehnologiju i svoj svoj svojstvo smanjenja, postupci čišćenja se svaki put zakompliciraju. Okretači vafelja kreću se od čestica s rasponom promjera 0,1 do 20 mikrona, organskih i anorganskih onečišćenja i nečistoća. Čišćenje vafera mora se obaviti bez uvođenja dodatnih nečistoća ili onečišćenja na konačnu površinu.

Sredstvo za čišćenje poluvodiča/vafera
ZSEM proizvodi razne elektroničke posebne plinove i organska otapala visoke čistoće koje sadrže fluorin kako bi se olakšala proizvodnja vašeg čipa. Zadatak čišćenja vafera jedan je od najprometnijih postupka koji se poduzima prilikom izrade vafera. Uz stalno mijenjajuću tehnologiju i svoj svoj svojstvo smanjenja, postupci čišćenja se svaki put zakompliciraju. Okretači vafelja kreću se od čestica s rasponom promjera 0,1 do 20 mikrona, organskih i anorganskih onečišćenja i nečistoća. Čišćenje vafera mora se obaviti bez uvođenja dodatnih nečistoća ili onečišćenja na konačnu površinu.

Vrući proizvodi

novi proizvodi